科研實驗專用硅化鉬靶材MoSi2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產品介紹

鉬的硅化物為主要成分的陶瓷。硅-鉬系統(tǒng)存在硅化三鉬、三硅化五鉬和二硅化鉬，主要為二硅化鉬(MoSi2)。硅化鉬陶瓷為灰色、有金屬光澤的晶體，具有優(yōu)良的高溫抗氧化性能。
       產品參數
      中文名二硅化鉬   化學式MoSi2
      分子量154.13     熔點2030℃
      密度6.24g/cm3
支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價??！ 
服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊睿|量保證，售后無憂！
產品附件：發(fā)貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備 
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
        陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。